一個以提高在反射光顯微鏡反差有效的方法是利用暗場照明。 在反射的暗場顯微鏡，不透明封閉盤被放置在光通過垂直照明器行進的路徑，使得僅光的周邊光線到達偏轉鏡。 這些光線被反射鏡反射，并穿過環繞物鏡在高度傾斜角度照亮試樣的中空套環。

與垂直照明器的剖繪制的典型的反射光顯微鏡在圖1中所示的照明器是水平取向，90度，在顯微鏡并平行于臺面的光軸，與連接到燈殼背面照明的。 粗微調旋鈕提高或降低在或大或小的增量階段分別對樣品清晰聚焦。檢體的頂表面是在面向物鏡，這已被旋轉到顯微鏡的光軸的階段直立。

許多現代的反射光照明被描述為“通用”照明，因為，與幾個額外的配件和很少或沒有拆解，所述顯微鏡能夠容易地從反射光中的一個模式切換到另一個。 它甚至可以滑動反射出來的路徑的共以便執行透射光觀察。 這樣的通用發光器可以包括部分反射面的玻璃表面（有時被稱為半反射鏡），用于明，和/或與用于暗場觀察用橢圓形的，位于中央的清晰開口完全鍍銀反射面。

這些反射裝置（裝在反射鏡塊或立方體）中的每一個以45度角朝向光沿垂直照明和，同時行進傾斜，以45度角的顯微鏡的光軸。 二者的相應反射鏡的在朝向試樣90度向下引導光并且還允許向上行進的反射光通過到觀看管和目鏡觀察。 合理設計的垂直照明包括聚光透鏡來收集和控制光，孔徑光圈和預聚焦，定心場光闌，以允許期望的科勒照明。 固定到垂直照明的后端是包含燈泡，通常是一個高性能的鹵鎢燈一個燈箱。 對于非常微弱的暗場樣品，燈箱可以用含有水銀刻錄機所替代。 燃燒器燈可以由內置于顯微鏡支架，或（在簡單的模型）由外部變壓器的裝置的電子設備供電。

內的垂直照明，光通過一個50或100瓦的低電壓高強度的鹵燈鎢 - 發出的穿過聚光透鏡，然后通過在暗視場反射鏡塊的開放口撞擊不透明停止之前光圈和視場光闌位于所述物鏡上方的照明器的前方。 不透明止動塊的光束只允許光的中空圓柱體通入鏡塊，如下面 的圖2中所示的中心部分。 外地和孔徑光闌被打開以避免從源阻擋光的外圍光線的大的位置。

光進入反射鏡塊由位于塊內的管內的一個特殊的反射鏡反射。 這個反射鏡以45度角的入射光束取向，并且具有由一完全鍍銀前表面反射鏡圍繞的橢圓形的開口。 從該橢圓反射鏡反射的光的周邊光線被向下偏轉，在垂直照明的底部排出。 光的圓筒，然后通過管口通入稱為Neo ， BF/ DF，或BD的物鏡（圖3）專門構建的物鏡，根據制造商的前行進。 這些物鏡通常設計有必要為對缺少蓋玻片標本使用光學校正。

從暗視場鏡擋光向下行進圍繞專門建造BD的位于中心的透鏡元件360度中空室反射光的物鏡，如在圖3示出該光在從斜光線每個方位檢體定向，以形成由位于物鏡的中空室的底部的圓形反射鏡或棱鏡裝置照明的中空錐體。 在這種方式下，物鏡作為兩個獨立的光學系統耦合同軸使得外系統的功能作為暗視場“聚光鏡”和內系統作為一個典型的物鏡。

今天，暗視野的反射光顯微鏡物鏡是無限遠校正，并在放大倍數從5倍到200倍的廣譜可用。 這些物鏡還制造的色差和球面校正的各種素質，從簡單的消色差透鏡到平場消色差和平場復消色差透鏡。 大多數，但不是所有的，被設計為在物鏡和試樣之間的空間中使用的“干”的空氣。 一些反射光的物鏡是設計集中在從檢體比通常較長的工作距離。 這些標記被標在物鏡桶上，如LWD（長工作距離），ULWD（超長工作距離）和ELWD（超長的工作距離）。

物鏡設計的變化取決于生產商，但在聚光鏡部分可具有三個經典設計之一。 反射的反射物鏡具有定位在物鏡的鼻子單一的玻璃透鏡元件和依靠反射從筒的內表面，以將光聚焦到樣品。 另一個重要的物鏡的設計是屈光度結構，其中一個系列的棱鏡被策略性地放置在空心外部腔室，并用于瞄準和聚焦光朝向試樣。

在圖3所示的物鏡是一個反射折射系統，它使用兩個反射和折射光學元件和表面形成有必要，以查看在暗場模式的試樣照明的傾斜中空錐體。 進入物鏡的中空周邊光的汽缸遇到光引導到物鏡鏡筒的鏡像內表面的曲面透鏡元件。 光從桶直接通過玻璃元件反射，然后從外物鏡筒的鏡像內表面反射，折射通過第二透鏡元件，以形成照明的中空錐體之前。 光衍射和由檢體折射然后能夠進入物鏡的前透鏡。

周圍在反射光的物鏡透鏡元件的中空軸環的必要性需要物鏡的直徑比普通明物鏡顯著更大。 在大多數情況下，一個鼻形件安裝螺紋直徑大于顯微學會（RMS）的標準放大在反射光中的物鏡被使用。 這要求反射光暗場物鏡有一個較大的螺紋尺寸，其通常被稱為BD或BF / DF螺紋尺寸的鼻形件。 大多數制造商提供標準的轉換RMS螺紋尺寸物鏡轉盤架到BD螺紋尺寸物鏡適配器，使反射光顯微鏡的使用這些物鏡。 應注意，以確保對BD螺紋物鏡轉盤架用于物鏡將符合顯微鏡的管長度。

表1列出了一個典型的一系列設計用于反射光顯微術使用無限遠校正理學平場消色差t明/暗場物鏡的規格。數值孔徑在這個系列中，這是本設計的“干”的物鏡，實際限制達到約0.90的限制。